半导体用PRA高温真空晶圆退火炉
产品介绍
真空晶圆退火炉是在真空环境下，对半导体晶圆进行高温热处理的设备，主要用于消除应力、优化材料结构、增加电学性能。华测仪器经过多年研发，推出了采用高准度、高反射率抛物面搭配高性能加热源的解决方案，在升降温过程中仍能保持稳定均匀的温度场，可实现宽范围均热区、高速加热与高速降温。样品由石英管保护，无气氛污染，更适合半导体工艺使用
设备的反射镜采用高准度曲率设计，通过五轴加工系统制造，以维持更高的反射效率。反射镜主要分为圆形和抛物线型两种，可满足不同材料在不同温度控制条件下的测试需求
产品参数
产品型号：Huace-800G/Huace-1200G/Huace-1450G
产品尺寸：6寸晶圆或150 x 150mm产品
温度范围：RT ~ 800/1200/1450°C
升温速度：＜100℃/s可编程（此温度不含载盘的升温速度）
＜25℃/s（SiC载盘）
温度均匀度：±5 °C （≤ 500 ℃）
±1 % （> 500 ℃）
温度控制重复性：±1 °C
温控方式：PID 温控
公司简介
Beijing Hua Ce Testing Instrument Co., Ltd. is a national high-tech enterprise, abbreviated as Hua Ce Instrument. It is a company engaged in research and development, production and manufacturing. The company has a functional materials electrical laboratory and an electrical insulation materials electrical laboratory.
The products involve material testing instruments, signal amplification and conditioning, data acquisition and control, comprehensive performance evaluation of sensors, etc.
