产品详情
简单介绍：
真空晶圆退火炉是在真空环境下，对半导体晶圆进行高温热处理的设备，主要用于消除应力、优化材料结构、增加电学性能。
详情介绍：
薄钢板高温加热真空晶圆退火炉
产品简介
真空晶圆退火炉是在真空环境下，对半导体晶圆进行高温热处理的设备，主要用于消除应力、优化材料结构、增加电学性能。华测仪器经过多年研发，推出了采用高准度、高反射率抛物面搭配高性能加热源的解决方案，在升降温过程中仍能保持稳定均匀的温度场，可实现宽范围均热区、高速加热与高速降温。样品由石英管保护，无气氛污染，更适合半导体工艺使用设备的反射镜采用高准度曲率设计，通过五轴加工系统制造，以维持更高的反射效率。反射镜主要分为圆形和抛物线型两种，可满足不同材料在不同温度控制条件下的测试需求
参数规格
温度范围：RT~800/1200/1450°C
升温速度：＜100℃/s可编程（此温度不含载盘的升温速度）
＜25℃/s（SiC载盘）
温度均匀度：±5 °C（≤ 500 ℃）
±1 %（> 500 ℃）
温度控制重复性：±1 °C
温控方式：PID 温控
公司介绍
Beijing Hua Ce Testing Instrument Co., Ltd.
